JMP Pro16是一款非常专业的交互式可视化统计数据发现软件。它由SAS统计学软件公司开发设计，作为目前最新的版本，在功能上进行了一系列新增和优化，提供数据可视化、质量管理、产品研发、分析自动化等功能，该版本经过中文破解处理，用户可永久免费使用。

【功能特点】

　　数据采集

　　轻松挖掘多种形式的数据 – 导入Excel文件，读取文本文件，以及从符合ODBC标准的数据库中获取数据。

　　数据清洗

　　对数据进行清洗，找出离群值、输入错误、缺失值，以及会影响您的分析效果的其他不一致情况。

　　数据可视化

　　动态的图形化数据探索，通过可视化信息图分享数据背后的含义。

　　基本数据分析

　　通过直方图、回归、分布拟合及其他分析工具进行数据探索。

　　文本挖掘

　　通过单词和短语提取，或可视化并组织单词以揭示文本中潜藏的信息。

　　群组、过滤器和子集数据

　　快速排列数据，发现潜在模式并重点关注关键性的发现结果。

　　实验设计

　　基于当前的问题设计实验，兼顾预算、时间及其他约束。

　　统计建模

　　借助统计模型认清趋势与模式，从而更好地了解您的业务、竞争对手和客户。

　　假设分析

　　通过情景分析展示预测响应的模式以及每个因子对于响应的影响。

　　可靠性分析

　　获取对于产品性能的见解，确定材料或工艺中的缺陷，以及发现设计漏洞。

　　质量和过程工程

　　通过JMP优化质量 – 最大限度减少客户抱怨，提供超出预期的产品和服务。

　　消费者和市场研究

　　借助数据挖掘、调查分析、选择实验等工具了解并适应不断变化的市场。

　　分享结果

　　以多种格式分享您的动态可视化信息图，完全不用担心对方是否拥有JMP。

　　自动化与脚本处理

　　可通过编写脚本实现过程自动化、重新生成分析报表，以及增加新的JMP功能。

　　根据自己的喜好定制JMP

　　对JMP设置进行随心自定义，使其按照您的喜好运行。

　　分析中心

　　在JMP界面中使用其他的分析工具，如SAS®、MATLAB、R和Python。

【软件特色】

　　基于容器的循环

　　针对基于容器的循环新增多个JSL函数，可提供多种方法轻松循环、变换和过滤一个或多个容器。

　　其他功能

　　JSL 支持在切换列后运行脚本。

　　多平台列切换器。

　　显示框JSL消息<<Set Auto Stretching(x, y) 现在为消息<<Set Stretch(x, y)，其中的x和y可以是“Neutral”, “Off”, “Fill”或“Window”中的任意一个。

　　更新的EWMA控制图

　　增强了三个默认图表中的交互性和功能—具有限值的EWMA、具有MR限值的单值图表和残差图表。

　　其他功能

　　控制图生成器的增强内容包括可在具有单侧限值的控制图上运行Western Electric检验。请注意：显示已排除区域和检验已排除子组默认应为“关闭”。

　　可靠性框图的改进包括新增“生成代数表达式数据表”，其中每个成分对应一列，并且最后一列为系统可靠性代数表达式（这是将成分列提取为参数的JSL表达式）。

　　拟合寿命分布平台现在可在没有删失观测的情况下，报告中位数排名回归(MRR) Weibull参数估计值。

　　测量系统分析(MSA)设计可生成用于MSA检验的完全析因（完全交叉）设计，并提供估值的诊断测量功能。请访问“实验设计 > 特殊目的”。

　　更新的OC曲线用户界面（请访问“分析 > 质量和流程”）。

【更新内容】

　　模型筛选

　　没有一个模型可以拟合所有问题。您需要选择最适合的模型来探索当下问题的答案。欢迎使用全新的模型筛选平台：在这里，您可以比较多个模型并确定最适合您需求的模型，来减少模型拟合过程中所需的时间。

　　自动拟合多个预测模型，助您选出性能最佳的模型。

　　使用默认的微调参数，即可拟合所有可用的分类响应或连续响应的预测模型。

　　词条选择和情感分析

　　您是否需要更好地了解客户的心声？文本分析器平台推出两个新功能，支持您执行数据推导的情感分析，更好地了解客户真正要表达的含义。

　　使用词条选择寻找到与您的响应变量关联度最强的词条。

　　使用情感分析功能，对客户评价、调查响应和表述进行分类，并从中解读出客户的情绪。

　　增强的结构化方程模型

　　支持以全新的测量和可视化方式评估测量模型、提供模型快捷方式，来轻松地指定相同模型以及交互式的模型比较表。PRO

　　改进的探索离群值

　　更新的K-NN可在最大离群值显示更多的详细信息，而全新又强大的PCA可提供可靠的多元方法，响应数据的多元结构，并允许缺失值。

　　时间序列预测

　　支持预测多个时间序列、拟合多达30个不同指数平滑的模型，并能够自动选择最优模型。包括为时间序列模型验证使用维持集的工作流程。

　　刻画器外推法控制

　　在刻画器探索预测或执行优化时，提供控制以免在原始数据范围之外外推过远。PR